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스퍼터 시스템의 장단점에 대해서 장점 1. 모든 재료를 스퍼터링하고, 증착 할 수 있다. 2. 스퍼터 타겟은 안정적이고, 긴라이프 타임의 소스를 제공한다. 3. 모든 방향에서 증착이 가능하다. 4. 스퍼터링 타겟은 대면적 증발 소스를 제공 할 수 있다. 5. 스퍼터링 타겟은 특정 모양의 증발 소스를 구성 할 수 있다. 6. 스퍼터링 타겟은 콘 또는 구와 같은 기판 표면에 증착이 가능하다. 7. 재현성이 좋다. 8.다른 증발 시스템에 비해 복사열이 적다. 9. 다른 물질을 반응 증착 시킬 수 있다. 10. 화학 증기 전구체를 사용할 때 분자는 플라즈마에서 해리되거나 부분적으로 해리될 수 있다. 11. 일부 스퍼터링의 구조에서는 타겟소스의 효율성을 증가 시킬 수 있다. 12. 한번에 표면 처리 구성이 용이하다. Disadvantages i.. 2023. 2. 22.
진공 증착 박막 두께 추정 방법 한 지점을 중심으로 고르게 분포 증착 된 다는 가정하에 진공 증착 박막의 두께는 다음과 같이 계산 할 수 있다. R=소스 포인트에서 기판까지의 거리 ρ=원재료의 상대적 무게 a=기하학 상수(=2) R=10cm, m(Al)=1gr, ρ(Al)=2.7g/ml, Al 막두께 t=1.47㎛가 된다. 2023. 2. 22.
스퍼터링의 박막 성장 과정에 대해서 박막은 기판에 물질의 원자를 대상 샘플, 시편, 웨이퍼 섭스트레이트 등에 증착하여 성장시킨다. 증착 물질의 원자단위 증착은 그 성장 과정이 다음과 같다. 1. 모든 물질의 박막 성장은 무작위의 핵 생성 프로세스로부터 시작된다. 2. 핵 생성 및 성장 단계는 성장 온도, 성장 속도 및 기판 표면 화확적 상태 등과 같은 다양한 증착 조건과 환경에 따라서 달라지게 된다.(프리 스퍼터링을 통해 이러한 변화를 최소화 하는 과정이 필요하다.) 3. 핵의 형성 단계에서는 전자 또는 이온 충격과 같은 외부 변화에의해 핵 형성이 바뀔 수 있다. (보통 처음 시드 형성 공정 압력을 높게 하고, 증착 구간에서는 낮은 공정 압력을 유지하게 된다.) 4. 핵 형성 단계의 증착 조건에 따라서 필름 미세 구조와 그에 따른 결함 및.. 2023. 2. 22.
Quartz Crystal Sensor(QCM 센서)의 활용 크리스탈 퀄츠 센서 써멀이나 이빔, 스퍼터 등의 물리 증착 시스템에서 QCM은 박막의 두께를 손쉽게 측정 할 수 있는 중요 부품이다. 보통 초당 증착 속도와 박막의 두께를 실시간으로 확인 할 수 있기 때문에, 정확한 박막의 두께를 제어 할 수 있고, 안정정인 증착 속도를 확인하면서 자동으로 파워를 조절하여 자동 공정에서는 필수 적인 부품으로 자리잡고 있다. 크리스탈 센서는 육각기둥처럼 생긴 다면체의 수정막대기에서 만들어진다. 수정 막대기를 얇은 원형 웨이퍼 형태로 가공한다. 보통 1/10000인치로 알려져 있다. 가공된 크리스탈의 한쪽면에 윤곽을 그리고, 세정한 후 얇은 금속막으로 한쪽면을 코팅한다. 뒷면은 열쇠구멍 모양으로 코팅한다. 동작하는 기본 원리는 수정과 같은 결정체가 압력을 받거나 눌리면 전지.. 2022. 7. 12.